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圆与直线相切公式,圆的面积公式和周长公式 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大(dà)家好,来看一(yī)则突发消(xiāo)息。

  美光(guāng)公司在(zài)华销(xiāo)售的产品未(wèi)通(tōng)过网络安全(quán)审查(chá)

  据网信办消(xiāo)息(xī),日(rì)前,网络(luò)安(ān)全审查(chá)办公(gōng)室依法对(duì)美光(guāng)公司在华销售产品进行(xíng)了网络(luò)安(ān)全审(shěn)查。圆与直线相切公式,圆的面积公式和周长公式>

  审查发现,美光(guāng)公司(sī)产品(pǐn)存在(zài)较严(yán)重网络安全问题隐患(huàn),对我国关键信息基础设施供应链(liàn)造成(chéng)重大安(ān)全风险,影响我国国家安全。为(wèi)此,网络安全审查办公室依法作出不予通过网络安全审查的结论(lùn)。按照《网络安全法(fǎ)》等法(fǎ)律法规,我国内关键信息基础设施的运(yùn)营(yíng)者(zhě)应停止采购美光公司产品(p圆与直线相切公式,圆的面积公式和周长公式ǐn)。

  此次对美光公司产品进行网络安全审查,目(mù)的是防范产品网络安全问(wèn)题(tí)危害(hài)国(guó)家关键信息基础设施安全,是维护国(guó)家安(ān)全的(de)必要措施。中(zhōng)国坚定推进高(gāo)水(shuǐ)平(píng)对(duì)外开放,只要遵守(shǒu)中国法律法规要求,欢迎各国(guó)企业、各类平台(tái)产品服务进入中国市场。

  半(bàn)导体突(tū)发!中国出手(shǒu):停止采购!

  3月31日,中国网信网发(fā)文称(chēng),为保障关键信息基础设(shè)施供应链安全,防(fáng)范产品问题隐患造成网络安(ān)全(quán)风险(xiǎn),维护国家(jiā)安全,依据《中华人民共(gòng)和国(guó)国家安全法》《中华人民共和(hé)国网络安(ān)全法》,网(wǎng)络安全(quán)审查办公室按照《网络安全审(shěn)查办法(fǎ)》,对美光公司(Micron)在华销售的产(chǎn)品实施(shī)网络安全(quán)审查。

  半导体突发!中国出手(shǒu):停止(zhǐ)采(cǎi)购!

  美光是美国的存储芯片行业龙头,也是全球(qiú)存储芯(xīn)片巨头(tóu)之(zhī)一,2022年收入(rù)来自中国市场收(shōu)入(rù)从此前高峰57%降至2022年(nián)约11%。根据市(shì)场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子(zi)、 铠侠、西(xī)部数据、SK 海力士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪(shǎn)存(cún))市场份额(é)约为(wèi) 96.76%,三(sān)星电子、 SK 海力(lì)士、美(měi)光(guāng)在全球 DRAM (内存)市场(chǎng)份额约为 94.35%。

  A股上(shàng)市(shì)公司中(zhōng),江波龙、佰维存储等公司披露(lù)过(guò)美(měi)光(guāng)等国际(jì)存(cún)储厂商为公(gōng)司供(gōng)应商。

  美光在江波(bō)龙采购占比已(yǐ)经显著下降,至少已经不是主要大(dà)供应商。

  公(gōng)告显示, 2021年(nián)美光位列江波龙第一大存(cún)储晶圆(yuán)供应商(shāng),采购约31亿元(yuán),占(zhàn)比33.52%;2022年,江波龙第一(yī)大、第(dì)二大和第三大供应商采购金(jīn)额(é)占比分(fēn)别是26.28%、22.85%和5.76%。圆与直线相切公式,圆的面积公式和周长公式p>

  目(mù)前(qián)江波龙已经在(zài)存储产业链上下(xià)游建立国内外广泛合作。2022年(nián)年报显示,江波(bō)龙与三星、美光、西部(bù)数据等(děng)主要存储晶圆原厂签(qiān)署了(le)长期合约(yuē),确保存储晶圆供应的稳定性,巩固公司在下游市场的供应优势,公(gōng)司(sī)也(yě)与国内国产存储晶圆原厂武汉长江存储、合肥长鑫(xīn)保持良好的合(hé)作。

  有券(quàn)商此前就(jiù)分(fēn)析,如果美光(guāng)在中国(guó)区销售受到限制,或将导致下游客户(hù)转(zhuǎn)而采购(gòu)国(guó)外三(sān)星、 SK海(hǎi)力(lì)士,国内长(zhǎng)江存储、长鑫存储等竞(jìng)对产品

  分析称,长存、长鑫的上游设备厂或(huò)从中受益。存储器的生产(chǎn)已经演进到1Xnm、1Ynm甚(shèn)至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经(jīng)进入3D NAND时代,2 维到3维的(de)结构转变使(shǐ)刻蚀和(hé)薄膜成为(wèi)最关(guān)键(jiàn)、最(zuì)大(dà)量(liàng)的(de)加工设备。3D NAND每层均需(xū)要经过薄(báo)膜(mó)沉积工艺步(bù)骤,同时刻蚀目前(qián)前沿(yán)要(yào)刻到 60:1的深孔,未来可能会(huì)更深的孔(kǒng)或者沟槽,催生更多设(shè)备(bèi)需(xū)求。据东京电(diàn)子披(pī)露,薄膜沉积设备及(jí)刻蚀占3D NAND产线资本开支合计为75%。自长江(jiāng)存储被加入美国限制名单,设备(bèi)国产(chǎn)化进程加(jiā)速,看好拓(tuò)荆科技(薄膜沉(chén)积)等(děng)相(xiāng)关公司份额(é)提升,以(yǐ)及存(cún)储业(yè)务占比(bǐ)较高的华海清(qīng)科(CMP)、盛美上海(清洗(xǐ))等收入(rù)增长。

 

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